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Apparecchiature di deposizione a forno CVD per la preparazione di film sottile di materiale semiconduttore

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Marca: Jingtan

Certificazione: CE

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Quantità di ordine minimo: 1 set

Prezzo: USD12,000-100,000/SET

Imballaggi particolari: Imballaggio in cassa di legno

Tempi di consegna: 60 giorni

Termini di pagamento: L/C/T/t

Capacità di alimentazione: 30 pezzi/pezzi per quarto

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Specificità

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                                                                                                                                                                                                                                                                                                                                                                                                                                                                                                                                                                                                                                                                                                                                                                                                                                                                                                                                                                                                                                                                                                                                                                                                                                                                                                                                                                              Apparecchiature di deposizione per materiali semiconduttori, Forno CVD per materiale semiconduttore
                                                  

Luogo di origine:	Hunan, Cina	Tipo:	forno ad induzione
Utilizzatori:	forno di deposizione	Ispezione video di uscita:	Fornito
Rapporto di prova della macchina:	Fornito	Componenti fondamentali:	PLC
brand name:	Jingtan	Voltaggio:	380
Peso (T):	2 T	Potenza (kW):	220
Punti chiave di vendita:	Prezzo competitivo	Temperatura di progettazione (°C):	1250-2200
Temperatura inquietante:	900-1200°C	Tasso di aumento della pressione (Pa/h):	0.67Pa/h ((150Pa/24h)
Metodo di riscaldamento:	resistenza/induzione	Atmosfera lavorativa:	vuoto/CH4/C3H6/H2/N2/Ar
Tipo di forno:	Quadratura/rotondaVerticale/orizzontale	Modalità di raffreddamento del forno:	raffreddamento dell'acqua a scatola di forno
Strumento a infrarossi:	mono/doppia colorimetrica	Uniformità della temperatura:	± 5
Valore limite di vuoto (Pa):	1-100	Tipo di commercializzazione:	Prodotto ordinario
Garanzia dei componenti principali:	1 anno	Industria applicabile:	altri, semiconduttori

Luogo di origine:	Hunan, Cina
Tipo:	forno ad induzione
Utilizzatori:	forno di deposizione
Ispezione video di uscita:	Fornito
Rapporto di prova della macchina:	Fornito
Componenti fondamentali:	PLC
brand name:	Jingtan
Voltaggio:	380
Peso (T):	2 T
Potenza (kW):	220
Punti chiave di vendita:	Prezzo competitivo
Temperatura di progettazione (°C):	1250-2200
Temperatura inquietante:	900-1200°C
Tasso di aumento della pressione (Pa/h):	0.67Pa/h ((150Pa/24h)
Metodo di riscaldamento:	resistenza/induzione
Atmosfera lavorativa:	vuoto/CH4/C3H6/H2/N2/Ar
Tipo di forno:	Quadratura/rotondaVerticale/orizzontale
Modalità di raffreddamento del forno:	raffreddamento dell'acqua a scatola di forno
Strumento a infrarossi:	mono/doppia colorimetrica
Uniformità della temperatura:	± 5
Valore limite di vuoto (Pa):	1-100
Tipo di commercializzazione:	Prodotto ordinario
Garanzia dei componenti principali:	1 anno
Industria applicabile:	altri, semiconduttori

Descrizione

Apparecchiature di deposizione a forno CVD per la preparazione di film sottile di materiale semiconduttore

Specificità:

Fornace a deposizione a vuoto:

Utilizzato principalmente per la preparazione di materiali compositi carbonio-carbonio e il forno di deposizione è utilizzato principalmente per la preparazione di rivestimento pirolitico di carbonio sulla superficie della grafite,dispositivi semiconduttori e materiali di spazzolatura resistenti al calore.

Parametro/numero modello	JT-0305-C	JT-0505-C	JT-0608-C	JT-0608-C	JT-0812-C	JT-1120-C	JT-1218-C	JT-1520-C
Dimensione della zona di lavoro φ×H(mm)	300×500	500×500	600×800	600×1200	800×1200	1100×2000	1200×1800	1500×2000
Temperatura massima (°C)	2300	2300	2300	2300	2300	2300	2300	2300
Uniformità di temperatura ((°C)	± 5	± 5	± 5/± 7.5	±7,5/±10	±7,5/±10	±10/±15	±10/±15	± 15 / ± 20
Grado di vuoto limite ((Pa)	1-100	1-100	1-100	1-100	1-100	1-100	1-100	1-100
Grado di vuoto limite ((Pa)	0.67	0.67	0.67	0.67	0.67	0.67	0.67	0.67
Metodo di riscaldamento	Resistenza/induzione	Resistenza/induzione	Resistenza/induzione	Resistenza/induzione	Resistenza/induzione	Resistenza/induzione	Resistenza/induzione	Resistenza/induzione

Temperatura di progetto	1250°C/1650°C/1800°C/2200°C
Temperatura comune	900~1200°C
Grado di vuoto	< 50 Pa
Tasso di aumento della pressione	6.67pA/h (o 150Pa/24h) allo stato freddo del forno vuoto
Modalità di riscaldamento	riscaldamento a resistenza al grafite o riscaldamento per induzione, controllo della temperatura indipendente, buona uniformità della temperatura
Medio atmosferico	vuoto /CH4/C3H6/H2/N2/Ar

Modalità di controllo del gas	controllo del misuratore di flusso di massa, percorso di gas multicanale, campo di flusso uniforme, nessun angolo morto di deposizione, buon effetto di deposizione;sistema di trattamento dei gas di scarico multi-fase ed efficiente, rispettoso dell'ambiente,facile da pulire
Tipo di forno	struttura quadrata, rotonda, verticale o orizzontale (progettazione non standard), camera di deposizione completamente chiusa, buon effetto di tenuta, una forte capacità di prevenzione dell'inquinamento;
Modalità di raffreddamento del forno	sistema di raffreddamento rapido a circolazione esterna, tempo di raffreddamento breve, alta produzione efficienza;

Forma della struttura	Scarico orizzontale laterale, scarico verticale su/sotto
Modalità di blocco	manuale/automatico
Materiale della conchiglia	acciaio inossidabile interno/tutto acciaio inossidabile
Materiale isolante	Feltro di carbonio/feltro di grafite/feltro di fibra di carbonio
Strumento a infrarossi	monocolorimetrico/doppio colorimetrico
Fornitore di alimentazione	KGPS/IGBT ((solo per riscaldamento a media frequenza) Parametro del prodotto:

Tags:

Fornaci a deposizione a vuoto,

Forno di deposizione di vapore,

Forno CVD

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