Forno di sinterizzazione Si2OZ personalizzabile per ossido di silicio 1500°C
00:18
Fornace di sinterizzazione per pezzi metallici ad alta precisione
00:49
Forno di sinterizzazione a 1600°C MIM per parti metalliche
00:24
Forno di graffitizzazione a scala pilota a 3000°C con riscaldamento rapido a 60°C/min e progettazione modulare espandibile
00:48
Forno di graffitizzazione ad altissima temperatura a 3200°C con controllo PLC/PC e sistema di raffreddamento ad acqua per uso di laboratorio
00:17
Fornace di Purificazione di Nanotubi di Carbonio di Grande Volume con Zona ad Alta Temperatura da 300*300*500 a 1500*1500*5200 mm e Capacità di Carico da 45 a 11700
Ripetizione
Prossimo video
Forno di sinterizzazione per ossido di silicio a temperatura di lavoro di 1500°C, ±5°C Uniformità e dimensioni di camera personalizzabili
Adatto per la produzione in serie di materiali per deposizione di vapore come l'ossido di silicio; Controllo della differenza di temperatura ad alta precisione, alta temperatura e alto vuoto; Con ...Vista più
Messaggi del visitatoreLasci un messaggio
Nessun commento pubblico
Forno di sinterizzazione per ossido di silicio a temperatura di lavoro di 1500°C, ±5°C Uniformità e dimensioni di camera personalizzabili