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Forno a induzione a 2800℃ con alimentazione automatica e controllo PID per la purificazione della polvere di grafite

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Forno di grafitizzazione con capacità di carico di 375L 500x500x1500 Dimensione della camera e ±5°C Uniformità di temperatura per la purificazione dei semiconduttori

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Forno di grafitizzazione con capacità di carico di 128L 400400800 Dimensione della camera e ±5 differenze di temperatura per la sinterizzazione a vuoto

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Forno di cracking di grafite a 3000°C per prove di laboratorio con raffreddamento ad acqua

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