Forno di graffitizzazione ad alta purezza a 3000°C con trattamento chimico e termico combinato per 99,99% di materiali a carbonio

Forno di grafitizzazione sotto vuoto per purificazione di nanotubi di carbonio ad alta purezza con trattamento chimico e termico combinato

Il forno per la purificazione del materiale in carbonio ad alta purezza combina la grafitizzazione termica a 3000 ℃ con metodi di trattamento chimico. Questo doppio approccio raggiunge i livelli di purezza del 99,99% richiesti per le applicazioni di semiconduttori, aerospaziali ed elettroniche avanzate.

Caratteristiche principali

• Metodo combinato di grafitizzazione ad alta temperatura e purificazione chimica
• Raggiungimento della purezza del 99,99% verificato tramite test di terze parti
• Temperatura di lavoro di 3000 ℃ con controllo preciso dell'atmosfera
• Sistema di dosaggio chimico con iniezione automatizzata e trattamento degli scarichi
• Sistema di tracciabilità dei lotti con certificazione di purezza per lotto di produzione

Applicazioni

Fondamentale per la produzione di nanotubi di carbonio per semiconduttori, materiali compositi aerospaziali, componenti di dispositivi medici ed elettronica avanzata che richiedono nanomateriali di carbonio ad altissima purezza.

Vantaggi tecnici

• Il doppio metodo di purificazione raggiunge livelli di purezza irraggiungibili con il solo trattamento termico
• Purezza del 99,99% verificata attraverso analisi di laboratorio indipendenti
• Il dosaggio automatizzato dei prodotti chimici garantisce un trattamento coerente tra i lotti
• La certificazione di purezza per lotto fornisce una garanzia di qualità documentata

Servizio post-vendita

1 anno di garanzia completa con supporto tecnico remoto. Installazione e formazione in loco disponibili. Pezzi di ricambio forniti entro 7 giorni lavorativi. Consulenza tecnica a vita inclusa.